Сл |
Текст |
Эф |
Сл |
Текст |
Эф |
1 | Лекция 4. Тема: Сорбционные процессы (4 часа) - | 0 |
14 | наименьшая элементарная ячейка, допустимая размерами | 1 |
Реальная поверхность твёрдого тела и её взаимодействие |
каждого адатома, а также взаимодействиями адатом-адатом |
с газовыми средами. Адсорбция и десорбция. - |
и адатом-подложка. Они склонны образовывать |
Поверхностные фазы в субмонослойных системах |
упорядоченные структуры с той же вращательной |
адсорбат/подложка. - Состав поверхностных фаз. Покрытие |
симметрией, какой обладает и подложка. 3. Они имеют |
адсорбата. Покрытие атомов подложки - Фазовая |
тенденцию образовывать упорядоченные структуры, размеры |
диаграмма. «Основы физики поверхности и тонких пленок». |
элементарной ячейки которых довольно просто связаны с |
Кафедра ВЭПТ. http://mdl.lcg.tpu.ru. 1. |
размером элементарной ячейки подложки. Так, обычно |
2 | E(r) = eпр(r) + eот(r). Рис.1. Зависимость энергии | 0 |
наблюдается структура (1 х 1), (2 х 2), с(2 х 2) или |
притяжения Eпр и отталкивания Eот, а также полной |
(3 х 3)-R30°. |
потенциальной энергии E падающих атомов (сплошная |
15 | Рис. 6. Два возможных варианта структуры | 0 |
линия) от расстояния до поверхности. Здесь Ем – энергия |
поверхности Ni(100)c(2 х 2)-О. Атомы (или ионы) |
адсорбции, r0 – расстояние минимума полной |
кислорода — пустые кружки, атомы (или ионы) никеля — |
потенциальной энергии. |
заштрихованные кружки. (а) Поверхность |
3 | Среднее время жизни адатома может быть описано | 0 |
реконструирована. (б) Классический адсорбированный слой |
выражением: где ?0 – частота тепловых колебаний адатома |
без какой-либо реконструкции. |
в узле кристаллической решетки (?0 = 1012… 1014 Гц), |
16 | Рис. 7. a — СТМ изображение пар «ямка-островок» | 0 |
??m - энергия адсорбции. |
доменов поверхностной фазы Si(lll)v/3xv/3-Ag, |
4 | Рис.2. Потенциальный рельеф поверхности (сплошная | 0 |
формирующихся на поверхности Si(111)7x7. «Ямки» фазы |
линия) и возможные положения адатомов. Еп – уровень |
v^xy^-Ag выглядят как темные области, «островки» |
энергии атомов на поверхности; ?Еg = Еg - Еп – энергия |
V^xy^-Ag как светлые области. б - Схематическая |
активации диффузии адатома на поверхности; ?Ем – |
диаграмма структуры пары «ямка-островок». Атомы Ag |
энергия адсорбции; Ем – уровень энергии в вакууме; а – |
показаны серыми кружками, атомы Si белыми кружками. в - |
расстояние между атомами на поверхности. |
Схематическая диаграмма, иллюстрирующая массоперенос Si |
5 | Концентрация адатомов при осаждении пропорциональна | 0 |
при формировании пары «ямка-островок». |
скорости осаждения (плотности потока атомов на |
17 | Рис. 8. а - Крупномасштабное СТМ изображение | 0 |
поверхности) R: |
поверхности Si(lll)v/3xv/3-Ag, представляющую собой |
6 | Рис. 3. Один из простейших вариантов графика | 0 |
двухуровневую систему с разностью высот в один двойной |
потенциальной энергии для случая хемосорбции на плоской |
слой Si(111). Более яркие участки соответствуют Ag |
поверхности. Заметим, что в случае хемосорбции энергия |
верхнего уровня (и-л/З), а темные области соответствуют |
десорбции Ed больше, чем энергия адсорбции Еа. |
нижнего уровня (l-л/З). б - СТМ изображение высокого |
Потенциальные ямы содержат дискретные уровни энергии, |
разрешения, показывающее, что на верхнем и нижнем |
которые соответствуют разрешенным состояниям адатома. |
уровнях наблюдается одна и та же структура v^xy^-Ag. |
7 | Поверхностные фазы в субмонослойных системах | 0 |
18 | Фазовая диаграмма. Рис. 9. Схематическая фазовая | 0 |
адсорбат/подложка. В зависимости от силы взаимодействия |
диаграмма. Различные траектории соответствуют: А - |
между адсорбатом и подложкой адсорбция подразделяется |
осаждению адсорбата при фиксированной температуре; В' и |
на - физосорбцию (слабое взаимодействие); - хемосорбцию |
В - изохронному отжигу адсорбата, осажденного при |
(сильное взаимодействие). В качестве граничного |
пониженных температурах, (с и без десорбции адсорбата, |
значения принята энергия связи между адсорбатом и |
соответственно); С - изотермической десорбции |
подложкой около 0,5 эВ на молекулу (или атом) |
адсорбата. |
(1эВ/молекула = 23,060 ккал/моль = 96,485 кДж /моль). |
19 | Рис. 10. Схематическая иллюстрация траектории А на | 0 |
8 | Состав поверхностных фаз. Рис. 4. Схематическая | 0 |
рис. 6, показанная более детально. Стехиометрические |
иллюстрация поверхностных фаз разного состава, а - |
покрытия адсорбата для Фазы 2 и Фазы 3 помечены как ?2 |
поверхностные фазы, имеющие одинаковое покрытие атомов |
и ?3, соответственно. При увеличении покрытия адсорбата |
подложки (1,0 МС), но различные покрытия атомов |
от ?2 до ?3 доля поверхности, занятой Фазой 2, |
адсорбата (1,0, 0,5 и 0,25 МС); б — поверхностные фазы |
уменьшается, а занятая Фазой 3 соответственно |
с одинаковым покрытием атомов адсорбата (0,5 МС), но с |
увеличивается. Граница на фазовой диаграмме |
различным покрытием атомов подложки (1,0, 0,5 и 0,25 |
соответствует покрытию адсорбата, когда обе фазы |
МС). Атомы адсорбата показаны серыми кружками, атомы |
занимают примерно равные доли площади (то есть примерно |
подложки белыми кружками. |
по 50 %). |
9 | Таблица 1. Покрытие адсорбата для некоторых | 0 |
20 | Рис. 11. СТМ изображение, показывающее | 0 |
поверхностных фаз со структурой. |
сосуществование двух фаз: Si(lll)v/3xv/3-In (видна как |
10 | Х(hkl)с(N?L)R?°-А. Система обозначений Вуда: | 0 |
однородно серая поверхность) и Si(lll)v/3Txv/3l-In |
Адсорбированный слой. Подложка. Отношения параметров |
(видна как яркие и темные области, соответствующие |
поверхностной ячейки и ячейки подложки. Центрированная |
«ямкам» и «островкам»). |
ячейка. Рис.. Структура поверхностной центрированной |
21 | Рис. 12. а - Фазовая диаграмма для молекул Н2, | 0 |
прямоугольной решетки Ni(110)c(2x2)-О, образуемой |
физосорбированных на поверхности (0001) графита. б - |
атомами кислорода, адсорбированными на поверхности |
Модель соразмерной фазы. |
никеля Ni(110). Здесь as и bs — основные векторы |
22 | Рис. 13. а - Фазовая диаграмма для атомов Н, | 0 |
поверхностной решетки Ni; as’ = 2as и b's = 2bs - |
хемосорбированных на поверхности Fe(110). б - |
основные векторы поверхностной решетки, образуемой |
Схематическая диаграмма, иллюстрирующая структурные |
адатомами кислорода. |
модели формирующихся фаз. |
11 | Li / W (211). (1?7). | 3 |
23 | Рис. 14. Фазовая диаграмма системы In/Si(111) и СТМ | 0 |
12 | Рис. 5. | 0 |
изображения высокого разрешения поверхностных фаз |
13 | Таблица 2. Покрытия атомов адсорбата и подложки для | 0 |
In/Si(111). Элементарные ячейки обведены на СТМ |
некоторых поверхностных фаз. |
изображениях сплошной линией. |
14 | Закономерности формирования комбинации | 1 |
24 | Рис. 15. Картины атомной релаксации, возникающей | 0 |
«адсорбированный слой — подложка»: Они стремятся |
вокруг атома, растворенного (а) в объеме и (б) на |
образовать поверхностную структуру с наиболее плотной |
поверхности матрицы растворяющих атомов. |
упаковкой атомов. Т. е. они растут так, что образуется |
| | |
24 |
«Сорбционные процессы» | Сорбционные процессы |
4 |
http://900igr.net/fotografii/fizika/Sorbtsionnye-protsessy/Sorbtsionnye-protsessy.html